Menu
Gabung gratis
Bahasa Indonesia
Menu
Posting Permintaan Sourcing

Sourcing Mudah

Lebih Nyaman, Lebih Efisien

  • Satu permintaan, beberapa penawaran harga
  • Pencocokan pemasok terverifikasi
  • Perbandingan penawaran harga dan permintaan sampel

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Hunan, Cina
Produk Utama:
Sasaran Sputtering , Bahan Evaporasi , Bahan Logam Kemurnian Tinggi , Bahan Paduan , Bahan Senyawa , Uji Logam
Sertifikasi Sistem Manajemen:
ISO45001:2018, ISO9001:2015, Lainnya
Alamat:
A4-1 Building, Innovation and Pioneer Park, Yongan Town, Changsha, Hunan, China
Pasar Utama:
Eropa
Jumlah Staf Perdagangan Asing:
5
Mitra Rantai Pasokan:
30
Layanan OEM/ODM
Kunjungi Pabrik Saya
Klasifikasi:
4.0/5

Produsen dan pemasok dari Sasaran Sputtering, Bahan Evaporasi, Bahan Logam Kemurnian Tinggi, Bahan Paduan, Bahan Senyawa, Uji Logam dari China, menawarkan Target Katoda Tantalum Ta Kemurnian Tinggi, Target Pelat Tantalum untuk Pelapisan Film Tipis, Target Sputtering Tantalum, Target Multi-Arc, Katoda Tantalum untuk Pelapisan Film Tipis, Katode Tantalum Target Multi-Arc Tantalum untuk Pelapisan PVD kualitas dll..

Kirim Permintaan Obrolan
Anggota Berlian
Pemasok yang Diaudit Pemasok yang Diaudit
Beranda Menemukan
Setelah mengikuti, anda akan menerima email pengingat pembaruan
Pemberitahuan terbaru dari pemasok ini
2026-09-23

Produk baru

Target Sputtering Tantalum, Target Multi-Arc, Katoda Tantalum untuk Pelapisan Film Tipis
Target Sputtering Tantalum, Target Multi-Arc, Katoda Tantalum untuk Pelapisan Film Tipis
US$100-200 / Bagian

Produk baru

Target Sputtering Tantalum Kemurnian Tinggi 99,95% Pelat Tantalum untuk Aplikasi Dirgantara
Target Sputtering Tantalum Kemurnian Tinggi 99,95% Pelat Tantalum untuk Aplikasi Dirgantara
US$100-200 / Bagian

Produk baru

Katode Tantalum Target Multi-Arc Tantalum untuk Pelapisan PVD
Katode Tantalum Target Multi-Arc Tantalum untuk Pelapisan PVD
US$100-200 / Bagian

Produk baru

Target Katoda Tantalum Ta Kemurnian Tinggi, Target Pelat Tantalum untuk Pelapisan Film Tipis
Target Katoda Tantalum Ta Kemurnian Tinggi, Target Pelat Tantalum untuk Pelapisan Film Tipis
US$100-200 / Bagian

Produk baru

Logam Target Tantalum, Pelat Tantalum dengan Kemurnian 99,95% untuk Proyek Kustom
Logam Target Tantalum, Pelat Tantalum dengan Kemurnian 99,95% untuk Proyek Kustom
US$100-200 / Bagian
2026-09-16

Produk baru

Xinkang 3n5 99.95% Kemurnian CuNi50at% Pelet Bahan Granula Paduan Tembaga Nikel
Xinkang 3n5 99.95% Kemurnian CuNi50at% Pelet Bahan Granula Paduan Tembaga Nikel
US$45-125 / kg

Produk baru

Xinkang 99.99% Kemurnian 4n Target Sputtering Paduan Tembaga Nikel CuNi untuk PVD
Xinkang 99.99% Kemurnian 4n Target Sputtering Paduan Tembaga Nikel CuNi untuk PVD
US$45-125 / Bagian

Produk baru

Xinkang 99.95% Kemurnian 3n5 CuNi50at% CuNi30at% Target Paduan Tembaga Nikel Target Sputtering
Xinkang 99.95% Kemurnian 3n5 CuNi50at% CuNi30at% Target Paduan Tembaga Nikel Target Sputtering
US$45-125 / Bagian

Produk baru

Xinkang 5n 99.999% Target Sputtering Silikon Paduan Silikon Murni Tinggi
Xinkang 5n 99.999% Target Sputtering Silikon Paduan Silikon Murni Tinggi
US$85-125 / Bagian
2026-09-05

Produk baru

Xinkang 99.9-99.9995% Granul Aluminium Murni Al Butiran Aluminium
Xinkang 99.9-99.9995% Granul Aluminium Murni Al Butiran Aluminium
US$55-135 / kg

Produk baru

Xinkang 99.995% Target Besi Murni Sputtering Target Bulat untuk Pelapisan PVD
Xinkang 99.995% Target Besi Murni Sputtering Target Bulat untuk Pelapisan PVD
US$35-150 / Bagian

Produk baru

Xinkang 3n5 99.95% Bahan Logam Kemurnian Mo Target Sputtering Bulat Molybdenum
Xinkang 3n5 99.95% Bahan Logam Kemurnian Mo Target Sputtering Bulat Molybdenum
US$60-125 / Bagian

Produk baru

Xk 99.95% Kemurnian 3mm 6mm Material Evaporasi Pellets Molybdenum untuk Pelapisan PVD
Xk 99.95% Kemurnian 3mm 6mm Material Evaporasi Pellets Molybdenum untuk Pelapisan PVD
US$100-150 / kg

Produk baru

99.95% Ketahanan Panas dan Stabilitas Kimia yang Sangat Baik Target Sputtering Bulat Nb Niobium
99.95% Ketahanan Panas dan Stabilitas Kimia yang Sangat Baik Target Sputtering Bulat Nb Niobium
US$100-200 / Bagian
2026-08-31

Produk baru

Sasaran Sputtering Kelas Industri Cofeb untuk Sensor Magnet Gmr Sensitivitas Tinggi
Sasaran Sputtering Kelas Industri Cofeb untuk Sensor Magnet Gmr Sensitivitas Tinggi
US$150-1.500 / Bagian

Produk baru

Sasaran Sputtering Cofeb yang Disesuaikan untuk Solusi Deposisi Film Tipis yang Inovatif
Sasaran Sputtering Cofeb yang Disesuaikan untuk Solusi Deposisi Film Tipis yang Inovatif
US$150-1.500 / Bagian

Produk baru

Target Paduan Besi Kobalt Boron Cofeb untuk 10tb/in² Media Perekaman Magnetik Vertikal
Target Paduan Besi Kobalt Boron Cofeb untuk 10tb/in² Media Perekaman Magnetik Vertikal
US$150-1.500 / Bagian

Produk baru

99.9% Sasaran Sputtering Cofeb Kemurnian Tinggi untuk Film Sambungan Terowongan Magnet Stt-Mram
99.9% Sasaran Sputtering Cofeb Kemurnian Tinggi untuk Film Sambungan Terowongan Magnet Stt-Mram
US$150-1.500 / Bagian
2026-08-20

Produk baru

Sasaran Paduan Tinb Langsung Pabrik - Sasaran Tinb Ukuran Kustom untuk R&D Material Superkonduktor Lab
Sasaran Paduan Tinb Langsung Pabrik - Sasaran Tinb Ukuran Kustom untuk R&D Material Superkonduktor Lab
US$100-1.500 / kilogram

Produk baru

Sasaran PVD Kepadatan Tinggi yang Dapat Disesuaikan - Standar ASTM untuk Lapisan Fungsional Perangkat Fusi
Sasaran PVD Kepadatan Tinggi yang Dapat Disesuaikan - Standar ASTM untuk Lapisan Fungsional Perangkat Fusi
US$100-1.500 / kilogram

Produk baru

Sasaran Sputtering Timah Kelas Industri - Kehilangan AC Rendah untuk Komponen Sensor Magnetik Squid
Sasaran Sputtering Timah Kelas Industri - Kehilangan AC Rendah untuk Komponen Sensor Magnetik Squid
US$100-1.500 / kilogram

Produk baru

Sasaran Paduan Titanium Niobium - 9-10K Tc untuk Film Tipis Superkonduktor Akselerator Partikel
Sasaran Paduan Titanium Niobium - 9-10K Tc untuk Film Tipis Superkonduktor Akselerator Partikel
US$100-1.500 / kilogram

Produk baru

99.95% Sasaran Sputtering Timah Murni Tinggi untuk Pelapisan Magnet MRI Superkonduktor Medis
99.95% Sasaran Sputtering Timah Murni Tinggi untuk Pelapisan Magnet MRI Superkonduktor Medis
US$100-1.500 / kilogram
2026-08-19

Produk baru

Titanium Suboksida dengan Konduktivitas Tinggi (Ti4O7) Target untuk Elektroda Sel Bahan Bakar Mikrobial MFC
Titanium Suboksida dengan Konduktivitas Tinggi (Ti4O7) Target untuk Elektroda Sel Bahan Bakar Mikrobial MFC
US$200-1.000 / Bagian

Produk baru

Target PVD Kepadatan Tinggi Ti4o7 yang Dapat Disesuaikan untuk Film Elektroda Pengolahan Air Limbah
Target PVD Kepadatan Tinggi Ti4o7 yang Dapat Disesuaikan untuk Film Elektroda Pengolahan Air Limbah
US$200-1.000 / Bagian

Produk baru

Target Sputtering Lanjutan Ti4o7 untuk Pelapisan Anoda Tidak Larut yang Disesuaikan
Target Sputtering Lanjutan Ti4o7 untuk Pelapisan Anoda Tidak Larut yang Disesuaikan
US$200-1.000 / Bagian

Produk baru

99.99% Putih Non-Konduktif TiO2 Target Sputtering Titanium Oksida untuk Sputtering PVD
99.99% Putih Non-Konduktif TiO2 Target Sputtering Titanium Oksida untuk Sputtering PVD
US$200-1.000 / Bagian
2026-08-18

Produk baru

99.99% Putih Non-Konduktif TiO2 Target Sputtering Titanium Oksida untuk Sputtering PVD
99.99% Putih Non-Konduktif TiO2 Target Sputtering Titanium Oksida untuk Sputtering PVD
US$200-1.000 / Bagian

Produk baru

99 99% Murni Srtio3 Target untuk Pelapisan Kapasitor Semikonduktor Lanjutan
99 99% Murni Srtio3 Target untuk Pelapisan Kapasitor Semikonduktor Lanjutan
US$150-1.000 / Bagian

Produk baru

Target Sputtering Premium Wsi2 untuk Aplikasi Semikonduktor Kemurnian Tinggi
Target Sputtering Premium Wsi2 untuk Aplikasi Semikonduktor Kemurnian Tinggi
US$200-1.500 / pieces

Produk baru

Target PVD Kepadatan Tinggi Wsi2 yang Dapat Disesuaikan untuk Pelapis Tahan Oksidasi Suhu Tinggi
Target PVD Kepadatan Tinggi Wsi2 yang Dapat Disesuaikan untuk Pelapis Tahan Oksidasi Suhu Tinggi
US$200-1.500 / pieces

Produk baru

Target Silisida Tungsten Kelas Industri 99.5% untuk Lapisan Penghalang Kemasan Elektronik
Target Silisida Tungsten Kelas Industri 99.5% untuk Lapisan Penghalang Kemasan Elektronik
US$200-1.500 / pieces
2026-08-17

Produk baru

Sasaran Sputtering Langsung Pabrik Moo3 untuk Penelitian dan Pengembangan Film Tipis Laboratorium & Fabrikasi Material Energi Baru
Sasaran Sputtering Langsung Pabrik Moo3 untuk Penelitian dan Pengembangan Film Tipis Laboratorium & Fabrikasi Material Energi Baru
US$150-1.000 / Bagian

Produk baru

Target PVD Kepadatan Tinggi yang Dapat Disesuaikan Moo3 untuk Lapisan Fungsional Panel Tampilan & Film Tipis Fotokatalitik
Target PVD Kepadatan Tinggi yang Dapat Disesuaikan Moo3 untuk Lapisan Fungsional Panel Tampilan & Film Tipis Fotokatalitik
US$200-1.000 / Bagian

Produk baru

99.99% Moo3 Sasaran Sputtering untuk Lapisan Transportasi Lubang Semikonduktor & Sel Surya Perovskite
99.99% Moo3 Sasaran Sputtering untuk Lapisan Transportasi Lubang Semikonduktor & Sel Surya Perovskite
US$100-1.000 / Bagian

Produk baru

Strontium Titanat Srtio3 Target Porositas Rendah untuk Lapisan Fungsional Sel Surya Perovskit & Perangkat Piezoelektrik
Strontium Titanat Srtio3 Target Porositas Rendah untuk Lapisan Fungsional Sel Surya Perovskit & Perangkat Piezoelektrik
US$150-1.000 / Bagian

Produk baru

Target PVD Kepadatan Tinggi Srtio3 yang Dapat Disesuaikan - Bersertifikat CE untuk Pelapisan Optik dengan Refraksi Tinggi & Komponen Sensor Oksigen
Target PVD Kepadatan Tinggi Srtio3 yang Dapat Disesuaikan - Bersertifikat CE untuk Pelapisan Optik dengan Refraksi Tinggi & Komponen Sensor Oksigen
US$150-1.000 / Bagian
2026-08-13

Produk baru

99.99% Kemurnian Tinggi Srtio3 Sasaran Sputtering untuk Film Tipis Dielektrik High-K & Kapasitor Semikonduktor
99.99% Kemurnian Tinggi Srtio3 Sasaran Sputtering untuk Film Tipis Dielektrik High-K & Kapasitor Semikonduktor
US$150-1.000 / Bagian
2026-08-03

Produk baru

99.9% Fe3o4 Sasaran Sputtering untuk Film Tipis Penyimpanan Magnetik & Penyimpanan Magnetik Semikonduktor
99.9% Fe3o4 Sasaran Sputtering untuk Film Tipis Penyimpanan Magnetik & Penyimpanan Magnetik Semikonduktor
US$100-200 / Bagian

Produk baru

Pabrik Langsung Kemurnian Tinggi Li3po4 Target untuk Penelitian Film Tipis Laboratorium & R&D Baterai Status Padat
Pabrik Langsung Kemurnian Tinggi Li3po4 Target untuk Penelitian Film Tipis Laboratorium & R&D Baterai Status Padat
US$100-180 / Bagian

Produk baru

99.99% Li3po4 Sasaran Sputtering untuk Lapisan Penghalang Lithium Ion Semikonduktor & Manufaktur Perangkat Energi Baru
99.99% Li3po4 Sasaran Sputtering untuk Lapisan Penghalang Lithium Ion Semikonduktor & Manufaktur Perangkat Energi Baru
US$100-180 / Bagian

Produk baru

Target Sputtering Kepadatan Tinggi yang Dapat Disesuaikan Li3po4 untuk Lapisan Anti Refleksi Optik & Komponen Keramik Fungsional
Target Sputtering Kepadatan Tinggi yang Dapat Disesuaikan Li3po4 untuk Lapisan Anti Refleksi Optik & Komponen Keramik Fungsional
US$100-1.000 / Bagian

Produk baru

Li3po4 Target Sputtering dengan 99 9% Kemurnian untuk Pelapisan Elektrode Baterai Lithium Berkecepatan Tinggi
Li3po4 Target Sputtering dengan 99 9% Kemurnian untuk Pelapisan Elektrode Baterai Lithium Berkecepatan Tinggi
US$200-1.800 / Bagian
Tentang Kami Deklarasi Perjanjian Pengguna Kebijakan Privasi Lebih banyak Made-in-China.com Produk Produk Cepat Wawasan
Opsi Bahasa: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026Focus Technology Co., Ltd. Hak cipta dilindungi undang-undang.
Fokus tidak bertanggung jawab atas perbedaan antara versi bahasa Inggris dan versi bahasa lainnya dari situs web. Jika ada konflik, versi bahasa Inggris akan muncul. Penggunaan Anda atas situs ini tunduk pada, dan merupakan pengakuan dan penerimaan atas Syarat dan Ketentuan Kami .