Berandaarrow-rightIndeks pabrik Chinaarrow-righttarget sputtering igzo pabrikarrow-rightdaftar pemasok
Filter
Kategori
Lainnya
Sertifikasi Manajemen
Lainnya
Kapasitas Litbang
Pendapatan Tahunan
Jumlah Karyawan
Provinsi dan Daerah
sekitar target sputtering igzo
  • Inovasi Teknologi
  • Rantai Pasokan yang Andal
  • Kemampuan Manufaktur yang Substansial

target sputtering igzo8 pabrik terverifikasi

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Kirim Permintaan
99.99% Target Keramik Igzo Indium Gallium Zinc Oxide Target Sputtering

99.99% Target Keramik Igzo Indium Gallium Zinc Oxide Target Sputtering

US$17,00-55,00
1 kg(MOQ)
99.95% Disk Niobium Murni Nb Target Sputtering Niobium untuk Proses PVD

99.95% Disk Niobium Murni Nb Target Sputtering Niobium untuk Proses PVD

US$17,00-55,00
1 kg(MOQ)
99.95% Target Keramik Izo Indium Zinc Oxide

99.95% Target Keramik Izo Indium Zinc Oxide

US$17,00-55,00
1 kg(MOQ)
99.99% VSI2 Sasaran Keramik Vanadium Disilicide Sasaran Sputtering

99.99% VSI2 Sasaran Keramik Vanadium Disilicide Sasaran Sputtering

US$17,00-55,00
1 kg(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Kirim Permintaan
Material Target Igzo (Indium Gallium Oksida) sangat murni untuk lapisan VPVD Magnetron Spakum, Bahan Penelitian dan Eksperimental

Material Target Igzo (Indium Gallium Oksida) sangat murni untuk lapisan VPVD Magnetron Spakum, Bahan Penelitian dan Eksperimental

Dapat dinegosiasikan
1 Bagian(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Kirim Permintaan
99.9% Sasaran Sputtering Keramik Hafnium Oksida Hfo2 Disk untuk Pelapisan Vakum

99.9% Sasaran Sputtering Keramik Hafnium Oksida Hfo2 Disk untuk Pelapisan Vakum

US$110,00-120,00
1 Bagian(MOQ)
Target Keramik Dioxide Mangan Mno2 Layanan Kustom

Target Keramik Dioxide Mangan Mno2 Layanan Kustom

US$110,00-120,00
1 Bagian(MOQ)
99 99% Sasaran Sputtering Titanium Tungsten untuk Pelapisan Film Tipis Presisi

99 99% Sasaran Sputtering Titanium Tungsten untuk Pelapisan Film Tipis Presisi

US$100,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
99.9%Tantalum Target Sputtering Nitride (TaN) untuk Pelapisan Semikonduktor

99.9%Tantalum Target Sputtering Nitride (TaN) untuk Pelapisan Semikonduktor

US$110,00-120,00
1 Bagian(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 thn
·Perusahaan Perdagangan
Kirim Permintaan
Harga Pabrik Jual Target Sputtering ITO Rotary Berkualitas Tinggi 4n In2o3 dan Sno2

Harga Pabrik Jual Target Sputtering ITO Rotary Berkualitas Tinggi 4n In2o3 dan Sno2

Dapat dinegosiasikan
1 Piece(MOQ)
Harga Pabrik Jual Target ITO Kemurnian Tinggi untuk Rpd 4n

Harga Pabrik Jual Target ITO Kemurnian Tinggi untuk Rpd 4n

Dapat dinegosiasikan
1 Piece(MOQ)
Harga Pabrik Jual Target Bulat Kecil ITO Kepadatan Rendah 4n

Harga Pabrik Jual Target Bulat Kecil ITO Kepadatan Rendah 4n

Dapat dinegosiasikan
1 Piece(MOQ)
Sasaran Logam ITO Kemurnian Tinggi 4n Oksida Indium dan Oksida Timah In2o3 dan Sno2

Sasaran Logam ITO Kemurnian Tinggi 4n Oksida Indium dan Oksida Timah In2o3 dan Sno2

Dapat dinegosiasikan
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Kirim Permintaan
Target Igzo, TFT Channel Igzo Layer, Target Indium-Gallium-Seng Oksida

Target Igzo, TFT Channel Igzo Layer, Target Indium-Gallium-Seng Oksida

Dapat dinegosiasikan
1 Bagian(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Kirim Permintaan
Target Spibar

Target Spibar

US$18,00-20,00
1 Bagian(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 thn
·Produsen/Pabrik & Perusahaan Dagang
Kirim Permintaan
Mesin Jalur Produksi Pelapisan Vakum PVD Berkelanjutan untuk Panel Sel Surya Hcvac

Mesin Jalur Produksi Pelapisan Vakum PVD Berkelanjutan untuk Panel Sel Surya Hcvac

US$500.000,00-5.000.000,00
1 Atur(MOQ)
Mesin Pelapisan Vakum PVD Kontinu Sputtering Magnetron Sel Surya Kaca Hcvac

Mesin Pelapisan Vakum PVD Kontinu Sputtering Magnetron Sel Surya Kaca Hcvac

US$150.000,00-500.000,00
1 Atur(MOQ)
Peralatan Pelapisan Vakum Kaca Arsitektur

Peralatan Pelapisan Vakum Kaca Arsitektur

US$150.000,00-500.000,00
1 Atur(MOQ)
Sistem Pelapisan Sputtering Magnetron Kaca Area Besar

Sistem Pelapisan Sputtering Magnetron Kaca Area Besar

US$150.000,00-500.000,00
1 Atur(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

Kirim Permintaan
ACETRON 4N 99.99% Sasaran Sputtering IGZO Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan Vakum/PVD

ACETRON 4N 99.99% Sasaran Sputtering IGZO Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan Vakum/PVD

US$99,00-99.999,00
1 Bagian(MOQ)
ACETRON 4N Target Tabung Sputtering ITO Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan PVD

ACETRON 4N Target Tabung Sputtering ITO Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan PVD

Dapat dinegosiasikan
1 Bagian(MOQ)
ACETRON 4N Target Pipa ITO Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan Vakum/Pelapisan PVD

ACETRON 4N Target Pipa ITO Kemurnian Tinggi untuk Pelapisan Vakum/Pelapisan PVD

Dapat dinegosiasikan
1 Bagian(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Target IGZO Kemurnian Tinggi Berputar untuk Pelapisan Vakum/Pelapisan PVD

ACETRON 4N 99.99% Target IGZO Kemurnian Tinggi Berputar untuk Pelapisan Vakum/Pelapisan PVD

US$99,00-99.999,00
1 Bagian(MOQ)
Tentang Kami Deklarasi Perjanjian Pengguna Kebijakan Privasi Lebih banyak Made-in-China.com Produk Produk Cepat Wawasan
Opsi Bahasa: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Hak cipta dilindungi undang-undang.
Fokus tidak bertanggung jawab atas perbedaan antara versi bahasa Inggris dan versi bahasa lainnya dari situs web. Jika ada konflik, versi bahasa Inggris akan muncul. Penggunaan Anda atas situs ini tunduk pada, dan merupakan pengakuan dan penerimaan atas Syarat dan Ketentuan Kami .