• 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace
  • 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace
  • 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace
  • 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace
  • 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace
  • 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace
Favorit

1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace

After-sales Service: 12 Months
Warranty: 12 Months
Aplikasi: Sekolah, Lab
Disesuaikan: Disesuaikan
Sertifikasi: CE
Struktur: Desktop

Hubungi Pemasok

Anggota Emas Harga mulai 2023

Pemasok dengan izin usaha terverifikasi

Henan, Cina
untuk melihat semua label kekuatan terverifikasi (15)
  • Ringkasan
  • Deskripsi Produk
  • Parameter Produk
  • Foto detail
  • Profil Perusahaan
  • FAQ
Ringkasan

Informasi dasar.

Tidak. Model.
PECVD tube furnace
Material
Baja Antikarat
Tipe
Tungku penampungan
sistem suplai gas
gas flow flowmeter (meter aliran gas)
daya output daya rf
50 w
metode pendinginan
pendinginan air
pompa vakum
pompa vakum putar bipolar
suhu pengoperasian
<=1200 c
Mass Flowmeter
up to 5ways
frekuensi rf
13,56mhz
vakum paling sempurna
10-1pa
rf
13,56mhz+0.005%
Paket Transportasi
Standard Export Fumigation Sign Wooden Box Package
Merek Dagang
TN
Asal
Henan China
Kode HS
8486209000
Kapasitas Produksi
5000/Month

Deskripsi Produk

1200C Plasma Enhanced Chemical DPosition VD Vakurnace VD

 

 
Deskripsi Produk

Alat berat yang dilengkapi plasma CVD terdiri dari generator plasma, tungku tabung tiga-pemanasan, tungku tabung satu-kali pemanas, catu daya RF, dan sistem vakum.
Untuk reaksi kimia yang dilakukan pada suhu rendah, aktivitas plasma digunakan untuk mendorong reaksi dan karenanya disebut dengan uap kimia yang lebih baik (PECD). Film PEVD berfungsi sebagai pengatur gas yang mengandung gas senyawa atom film dengan output RF 13.56 MHz, membentuk plasma dalam ruang vakum, menggunakan aktivitas kimia yang kuat di dalam plasma, meningkatkan kondisi reaksi, dan menggunakan aktivitas plasma untuk mendorong reaksi, kemudian, menyimpan film yang diinginkan pada substrat .


aplikasi:
Peralatan ini dapat digunakan di berbagai tempat pengujian seperti pembuatan grafene, persiapan sulfida, dan pengolahan material nanometer. Berbagai film seperti SiOx, SiNx, silikon amorphus, silikon mikrokristalin, nano-silikon, Sik, mirip berlian, dll. dapat disimpan di permukaan lembaran atau sampel serupa, dan jenis p dan film doped juga dapat disimpan. Lapisan film yang disetorkan ini memiliki keseragaman, pemadatan, adhesif, dan isolasi. Banyak digunakan di bidang pemotong, mold presisi tinggi, lapisan keras, dekorasi kelas atas, dll.

 
Parameter Produk
 
tungku tabung zona pemanasan Contoh CY-O1200-50IIT
Bahan tabung Quartz yang tinggi
Diameter tabung 50mm
Panjang tabung 2830mm
Panjang ruang tungku 660 mm
Panjang zona pemanasan 200mm+200mm+200mm
Suhu pengoperasian 0 DERAJAT CELCIUS
Akurasi kontrol temperatur ±1CELCIUS
Mode kontrol suhu kontrol suhu program 30 atau 50 segmen
Mode tampilan LCD
Metode perapat 304 flensa vakum baja anti karat
Antarmuka flensa Konektor ferrule 1/4", sambungan KF16/25/40
Vakum 4,4E-3Pa
Catu daya AC:220V 50/60Hz
Tungku tabung zona pemanasan tunggal Contoh CY-O1200-50IT
Bahan tabung Quartz yang tinggi
Diameter tabung 50mm
Panjang tabung 2830mm
Panjang ruang tungku 440 mm
Panjang zona pemanasan 400mm
 Zona suhu konstan 200 mm
 Suhu pengoperasian 0 DERAJAT CELCIUS
Akurasi kontrol temperatur ±1CELCIUS
Mode kontrol suhu kontrol suhu program 30 atau 50 segmen
Mode tampilan LCD
Metode perapat 304 flensa vakum baja anti karat
Antarmuka flensa  Konektor ferrule 1/4", sambungan KF16/25/40
Vakum 4,4E-3Pa
Catu daya AC:220V 50/60Hz
Sistem output RF Rentang Daya 0 500W yang dapat disesuaikan
Frekuensi kerja 13,56MHz+0.005%
Mode kerja Output kontinu
Mode tampilan LCD
Mode impedansi yang cocok Dapat cocok, sinar ini tertutup secara merata dengan tiga tabung tungku pemanas
Stabilitas Daya ≤2W
Kinerja normal yang memantulkan daya ≤3W
Kekuatan pantulan yang diperkuat ≤70W
Komponen harmonis ≤-50dBc
Efisiensi alat berat ≥70%
Faktor Daya ≥90%
Tegangan suplai/frekuensi AC satu fase (187V Frekuensi 153V) 50/60Hz
Mode kontrol Kontrol internal / komunikasi PLC analog / RS232 / 485
Pengaturan perlindungan daya Perlindungan arus berlebih DC, penguat daya pada proteksi suhu, perlindungan daya yang dipantulkan
metode pendinginan Pendinginan udara paksa
Panjang cahaya Dalam Ar, catu daya RF dan koil akan dipadukan menjadi cahaya dan cahaya dapat mengisi panjang tungku dalam tiga zona pemanasan.
Sistem suplai gas Sistem berbunga massa empat saluran Mass flowmeter
Kisaran aliran Jangkauan MFC1: 0  
Rentang MFC2: 0 scm
Rentang MFC3: 0  
Rentang MFC4: 0
Sesuai dengan gas H2, CH4, N2, Ar,
akurasi pengukuran ±1.5%F.S
Kemampuan mengulang ±0.2%FS
Presisi linear ±1%F.S.
Waktu Respons ≤4s
Tekanan kerja -0,15Mpa 0,15Mpa
kontrol aliran Kontrol layar sentuh LCD, tampilan digital, gas setiap saluran berisi katup jarum untuk kontrol individual
Antarmuka intake Dapat dihubungkan ke 1/4NPS atau lubang karat luar berdiameter 6 mm tabung baja
Antarmuka outlet Dapat dihubungkan ke 1/4NPS atau lubang karat luar berdiameter 6 mm tabung baja
Metode koneksi Konektor ferrule ganda
Suhu pengoperasian 5 DERAJAT CELCIUS
Gas premix Dilengkapi dengan perangkat pencampur gas
Sistem buang Pompa mekanis Pompa bilah putar
Laju pemompaan 1,1L/S  
Antarmuka BUANG KF16
Pengukuran vakum Pengukur resistan
Vakum paling sempurna 1,0E-1Pa
Catu daya AC:220V 50/60Hz
Antarmuka pemompaan KF16
Kereta Panjang rel 2.5m, 3m
Sistem ini mampu mencapai penurunan satu panjang tungku pemanas untuk mencapai kenaikan suhu yang cepat dan turun.
 
 
Foto detail

Foto-foto terkait  dengan Tungku VD PEC65
1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace


tungku tabung
1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace
1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace





 
Profil Perusahaan

 


1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace
FAQ

T. Apakah Anda adalah pabrikan atau perusahaan dagang?

Kami adalah produsen alat laboratorium profesional, memiliki tim desain dan pabrik sendiri, memiliki pengalaman teknis yang matang, dan dapat menjamin kualitas produk dan harga optimal.

T. bagaimana sistem layanan purna jual produk perusahaan Anda?
A. periode garansi produk adalah 12 bulan, kami dapat memberikan perawatan seumur hidup. Kami memiliki pra-penjualan profesional dan departemen purna-penjualan yang dapat merespons Anda dalam waktu 24 jam untuk mengatasi masalah teknis apa pun.

T. berapa lama waktu pengiriman Anda? Jika saya ingin menyesuaikan instrumen, berapa lama waktu yang diperlukan?
A.1. Jika barang-barang tersebut ada, berarti 5-10 hari. 2. Kami dapat menyediakan layanan yang disesuaikan untuk pelanggan kami. Biasanya berlangsung selama 30-60 hari tergantung pada spesifikasi instrumen yang disesuaikan.

T. pasokan daya dan steker negara kami berbeda. Bagaimana cara mengatasinya?
A. kita dapat menyediakan trafo dan steker sesuai kebutuhan setempat dan steker listrik di berbagai negara.

T. bagaimana cara membayar?
A.T / T, L / C, D / P, dsb., disarankan untuk menggunakan Alibaba Trade Guarantee.

T. bagaimana paket barang ini? Metode penyampaian?
A.1. Fumigasi ekspor standar menandai kemasan kotak kayu 2. Express, udara, kapal laut sesuai dengan kebutuhan pelanggan, dapat menemukan cara yang paling sesuai.

Pertanyaan lain, silakan hubungi saya.
 

Kirim permintaan informasi Anda langsung ke penyedia ini

*Dari:
*Untuk:
*Pesan:

Masukkan antara 20 dan 4000 karakter.

Ini bukan yang Anda cari? Posting Permintaan Sourcing SEKARANG

Temukan Produk Serupa Berdasarkan Kategori

Beranda Pemasok Produk deposisi uap 1200c Plasma Enhanced Chemical DePosition Vacuum Tube Furnace

Anda Mungkin Juga Menyukai

Hubungi Pemasok

Anggota Emas Harga mulai 2023

Pemasok dengan izin usaha terverifikasi

Produsen/Pabrik
Produk Utama
Evaporation Coater; Film Coater
Jumlah Karyawan
13