Semiconductor Ion Imperkebing, suku Cadang Plasma Etching

• Kandungan Karbon: 99.9995
• Komposisi: c
• Morfologi Kristal: grafit buatan
• Cara Pembentukan: Grafit Isostatik
• Kelas: kustomisasi
• Jenis: grafit
• Tidak. Model.: Kustom
• Paket Transportasi: Wooden Case
• Merek Dagang: SIAMC
• Asal: Cina
• Kode HS: 681519
• Kapasitas Produksi: Kustom

Deskripsi Produk

Produk grafit SIKC banyak digunakan dalam penanaman ion dan peralatan plasma karena resistansi panas yang unggul, konduktivitas termal, kandungan najis rendah, dan ketahanan terhadap korosi oleh sinar ion.
Di sektor penanaman ion, grafit sangat murni digunakan dalam tabung-tabung penerbangan, berbagai slit, elektrode, penutup elektrode, saluran, dan penghenti berkas cahaya. Komponen ini harus tahan terhadap korosi yang disebabkan oleh berkas ion.
Dalam penggalian plasma, komponen ruang reaksi plasma terekspos ke dalam gas etching yang dapat menyebabkan kontaminasi dan korosi. Namun grafit tersebut tahan terhadap korosi dalam kondisi kerja yang ekstrem seperti bom ion atau plasma, menjadikannya sebuah bahan ideal untuk mengambil komponen-komponen peralatan plasma, seperti elektrode grafit.
Produk grafit berkualitas tinggi SIKC memberikan kinerja dan keandalan luar biasa untuk penanaman ion dan peralatan plasma, memastikan kualitas dan efisiensi pemrosesan semikonduktor.
Layanan kami:

1. Jasa PEMESINAN material

2.Layanan Pengujian Kinerja Material

Layanan Pemurnian Material 3.Graphite

4.Graphite Products Layoute Service: PyC/TAC/lapisan sic

Layanan Penyesuaian performa 5.Graphite Performance



Komitmen kita:

Kami adalah karyawan perusahaan skala besar, lebih dari 1000

Kami adalah anggota dari ASTM(American Society untuk Pengujian dan Material  )

Kami memiliki  laboratorium(Layanan Akreditasi Nasional Cina)