Target Putar molibdenum Ssemburat

• Aplikasi: Penerbangan, Elektronik, Industri, Medis, Kimia, Furnace Construction
• Standar: GB, DIN, ASTM
• Kemurnian: >99.95%
• Alloy: Tanpa campuran
• Tipe: Bilah molibdenum
• Bubuk: Bukan bubuk
• Tidak. Model.: Mo1
• merancang skema: qos
• Paket Transportasi: Composite Board Box
• Spesifikasi: Upon request
• Merek Dagang: SNMTCO
• Asal: China
• Kode HS: 8486202100
• Kapasitas Produksi: 500 Sets/Year

Deskripsi Produk

Smtl menawarkan target yang meningkat sehingga meningkatkan performa lapisan penyerap lapisan film tipis.
Target putar molibdenum kami menggabungkan geometri target yang dioptimalkan serta properti material untuk proses lapisan yang efisien dan hasil yang terbaik. Panel ini digunakan dalam berbagai aplikasi, seperti tampilan panel datar, fotovoltaik, dan lapisan area besar. Dengan materi dan keahlian aplikasi serta teknologi pemrosesan canggih kami adalah pemasok utama untuk produser CIGS dan OEM utama,

Bidang Aplikasi:

• Bersentuhan dengan belakang sel surya lapisan tipis
• Bahan elektrode untuk metallisasi TFT-LCD
• Lapisan adhesi dan barier untuk Al-dan Cu-metallisasi untuk TFT-LCD

 

Keunggulan:

• Material padat penuh karena proses deformasi khusus
• Tingkat penggunaan lebih tinggi daripada target planar
• Konduktivitas termal Tinggi

 

Properti target putar molibdenum tulang
Kerapatan (pada suhu 20 derajat C)	> 99.8 % dari kepadatan teoretis
Kemurnian (tanpa tungsten)	> 99.97 % wt
Konduktivitas termal (pada 20 o C)	140 W/(m.K)
Ketebalan bahan target	umum: 10 hingga 15 mm
Panjang target	monolitik atau seragam pada tabung pendukung hingga 4 m.
Microstruktur	halus, seragam (bebas stres)

Tarif penggunaan tinggi
Target rotasi memberikan lipat atau bahkan lipat tiga kali lipat pemanfaatan material target planar. Versi monolitik berputar memiliki catatan: Mereka mempertahankan stabilitas mereka bahkan setelah target pemakaian lebih dari 75 %.
Konduktivitas termal Tinggi
Target monolitik menghasilkan produktivitas yang lebih besar dan efisiensi yang ditingkatkan untuk proses lapisan yang lebih cepat. Tanpa lapisan pengikat yang rendah, target monolitik memungkinkan laju transfer panas yang tertinggi. Target putar monolitik dapat dijalankan dengan daya hingga 30 kW/m.

Material berkualitas tinggi

• Struktur mikro yang rapat, seragam, dan detail
• Kemurnian jaminan lebih dari 99.97% (tanpa tungsten)
• Transfer panas termal yang luar biasa
• Resistivitas film tipis rendah memungkinkan (umumnya: 15 µOhm.cm)
• Kekuatan mekanis tinggi

 

• 3.1 sertifikat (EN 10204) untuk 21 elemen paling kritis
• GDMS, ICP-OES, AAS, LECO untuk analisis jejak dan jejak ultra
• Metallografi (Light optical microscopy, SEM) untuk analisis struktural mikro
• Pengujian ultrasonik