Sertifikasi: | CE, ISO, BV |
---|---|
Aplikasi: | Karet, Plastik, Kimia, Konstruksi, Metalurgi, Keramik, Pengecoran, Kaca, Astronomy, Medicine, Biology, Communication, Milit |
Tipe: | Synthetic Fused Silica |
substrat: | Synthetic Fused Silica 0f,0c,0A |
rata-rata c.e.: | 0.48-0.52 |
titik strain: | 893 derajat cellis |
Pemasok dengan izin usaha terverifikasi
Titik melemah | 1585 celcius (107.6 poses) |
Annealing Point | 1042 celcius (1013 poses) |
Titik Regangan | 893 celcius (1014.5 poses) |
Konduktivitas Termal | 1.30 W/m K |
Sistem Difusi Termal | 0.0075 cm2/dtk |
Rata-rata C.E. | 0.52 PPM/K 5 35- 0.57 PPM/K 0 200- 0.48 PPM/K -100 200- |
Elastis (muda) modulus | 72.7 IPK |
Shear Modulus | 31.4 IPK |
Rata-rata Modulus pecah, menjadi tua | 52.4 MPa |
Modulus Massal | 35.4 IPK |
Rasio Poisson | 0.16 |
Kerapatan | 2.201 g/cm3 |
Kekerasan Knoop (beban 100 g) | 522 kg/mm2 |
Solusi | Waktu | Kehilangan berat [mg/cm2] | |
5% HCL menurut berat | @95 DERAJAT CELCIUS | 24 jam | < 0.010 |
5% NaOH | @95 DERAJAT CELCIUS | 6 jam | 0.453 |
0,02N NA2CO3 | @95 DERAJAT CELCIUS | 6 jam | 0.065 |
0,02N H2SO4 | @95 DERAJAT CELCIUS | 24 jam | < 0.010 |
Tanpa ion H2O | @95 DERAJAT CELCIUS | 24 jam | 0.015 |
10% HF berdasarkan berat | @25 DERAJAT CELCIUS | 20 m | 0.230 |
10% NH4F*HF berdasarkan berat | @25 DERAJAT CELCIUS | 20 m | 0.220 |
Menerapkan bidang: | Penerapan mikroliografi Lensa kriptografi, Substrat Photographic Elemen laser ultraviolet yang dalam Komponen standar optik Optik laser yang unggul Optik lensa Elemen transmisi beam Pemandu cahaya Fusi laser Penerapan beragam teknologi angkasa |
***** |
Pemasok dengan izin usaha terverifikasi