Radio Plasma Magnetron Spibar Alat berat untuk Film Non-konduktif 2

• Certification: CE
• Condition: New
• tegangan: 110/240V
• ruang vakum: 160 mm*150 mm*250 mm
• tingkat vakum: 1,0e-2 torr dengan pu dual stage yang disertakan
• kecepatan rotasi dapat disetel: 1 - 10 rpm untuk lapisan yang seragam
• Tidak. Model.: MC-SC-2RF
• pelapisan: lapisan vakum
• daya (w): 800 W
• berat: 70 Kg
• catatan kaki target ukuran: diameter 2" x ketebalan 1/4"maks
• flensa perapat: dia juga berukuran 165 mm
• ukuran penahan sampel: diameter 50 mm untuk wafer 2"
• Paket Transportasi: Export Standard Packaging for Air and Sea
• Merek Dagang: MeCan
• Asal: China (Mainland) Guangdong
• Kapasitas Produksi: 5000

Deskripsi Produk

Plasma magron RF 2" meludah mesin pelapis untuk film non-konduksi   MC-SC-2RF

Deskripsi Produk

MC-SC-2RF adalah 2 sebuah Plasma magron RF kepala tunggal dengan lapisan sistem berpelapis non-logam, terutama lapisan tipis oksida. Sistem ini mengintegrasikan semua komponen ke dalam kabinet stand satu lantai, termasuk sumber daya RF, ruang vakum kwarsa, pompa vakum, pendingin air resirkulasi, dan monitor ketebalan film dll. Penilai ini yang sangat baik dan hemat biaya untuk pelapisan tipis bahan non-konduksi di R&D.  

 

Daya Masuk	1, 220 VAC, 50/60Hz, fase tunggal 2, 800 W (termasuk pompa) 3, jika tegangan 110 VAC, transformer 1000 W harus diminta, silakan klik gambar kiri untuk memesan
Sumber Daya	1, satu Generator 13.5 MHz, 300 W RF dengan fungsi pencocokan otomatis dibangun dalam kabinet dan terhubung ke 2 kepala mel4" yang berpibar 2, Opsional: Sumber daya DC yang memercik tersedia untuk material logam lapisan
Magnetron Spibar Kepala	1, satu kepala Rod 2" Magnetron Spwalaupun disertai jaket pendinginan air dan dimasukkan ke dalam ruang quartz melalui klem cepat   2, satu rana dibangun di flensa (dioperasikan secara manual) 3, satu hler air resirkulasi yang dikontrol secara digital 16 l/mnt diperlukan untuk mendinginkan kepala magron meludah   kepala berukuran 4 1" dapat diganti dan opsional dengan biaya ekstra   Kabel RF 5, 148 cm dapat diganti dengan biaya ekstra
Target Spibar	Persyaratan ukuran target: Diameter 2" x 1 ketebalan 4/1"Maks. 2. Satu target SiO2 termasuk untuk tes demo. 3. Metode Lapisan yang direkomendasikan target keramik Al2O3 4. Target berukuran 2" opsional (dengan pelat pendukung) tersedia atas permintaan dengan biaya ekstra.
Ruang Vakum	1, ruang vakum: OD 160 mm x 150 mm ID x Tinggi 250 mm. Terbuat dari kemurnian tinggi Flensa perapat 2: Dia juga dibuat Aluminium 165 mm dengan o-ring silikon temperatur tinggi Penutup jaring baja stainless disertakan untuk perlindungan radiasi RF 100% dari ruang ini 3 4, tingkat vakum: 1,0E-2 Torr dengan pompa mekanis dua tahap dan 1,0E-5 Torr dengan memakai turban opsional
Tempat Sampel	1, penahan sampel bisa diputar dan panas terbuat dari pemanas keramik dengan penutup baja tahan karat 2, ukuran penahan sampel: Dia 50 mm untuk wafer 2" 3, Kecepatan rotasi dapat disetel: 1 - 10 rpm untuk lapisan yang seragam 4 dengan suhu holder dapat disesuaikan dari RT hingga 500 derajat C, dengan akurasi +/- 1.0 SBP melalui pengontrol suhu digital. Tempat sampel pemanas 5, 800- 1000 tersedia atas permintaan. 6, penahan sampel getaran opsional tersedia untuk lapisan PVD daya.
Pompa Vakum	1, port vakum KF25 terpasang untuk menyambungkan ke pompa vakum. 2, diperlukan pompa vakum dengan adaptor KF25, namun tidak disertakan. Klik gambar untuk memesan secara terpisah. 3,Tingkat vakum: Torr-2 dengan pompa mekanis dua tahap dan Torr0E-5 dengan memakai turban
Opsional	Sensor ketebalan kuarsa presisi bersifat opsional, yang dapat terbentuk ke dalam ruang untuk memantau ketebalan lapisan dengan akurasi 0.10 Å.  Laptop diperlukan untuk menampilkan ketebalan tampilan
Berat bersih	70KG
Garansi & Kepatuhan	1 tahun garansi terbatas dengan dukungan seumur hidup 2, bersertifikat CE Sertifikasi NRTL atau CSA 3 tersedia atas permintaan di biaya tambahan
Catatan Aplikasi	1, magnetron RF 2" yang ringkas ini berpelapis ini dirancang untuk film tipis pelapisan oksida pada substrat kristal tunggal oksida, yang biasanya tidak memerlukan perlengkapan vakum yang tinggi 2, Gunakan > 5N kemurnian gas Ar untuk memercik 3, untuk kekuatan perekat substrat terbaik, harap bersihkan permukaan substrat sebelum pelapisan: A, pembersihan ultrasonik dengan bak mandi berurutan - (1) aseton, (2) isopropil alkohol - untuk menghilangkan oli dan gemuk pelumas. Keringkan substrat dengan N2, kemudian panggang panas dalam vakum untuk menghilangkan kelembapan yang diserap B, pembersihan Plasma mungkin diperlukan untuk pembersihan "pemugatan permukaan, pengaktifan obligasi kimia permukaan, atau pembersihan kontaminasi tambahan c, sebuah lapisan buffer yang tipis ( 5 nm), seperti Cr, Ti, Mo, Ta, dapat diaplikasikan untuk memperbaiki daya rekat logam dan campuran 4, untuk kinerja terbaik, target non-konduksi harus dipasang dengan pelat pendukung tembaga.   5, OLT menggunakan coers telah berhasil dilapisi ZnO pada substrat 500 pada SBP 1 C.   6, JANGAN gunakan air keran dalam pendingin air. Gunakan air di, air suling, atau zat tambahan anti-korosif dengan bahan kolant.