Target Azo ZnO: Target Al2O3 Sp.ucap untuk Semi Kontaktor

• Aplikasi: Industri
• rumus: ZnO:Al2O3
• klasifikasi: Ceranic Traget
• standar mutu: kelas industri
• sertifikasi: iso
• bentuk: Rotary,Flat,Round
• Tidak. Model.: CYT-AZO
• Paket Transportasi: Wooden Box
• Spesifikasi: Customized Size
• Merek Dagang: CANYUAN
• Asal: China
• Kapasitas Produksi: 1000PCS

Deskripsi Produk

DESKRIPSI PRODUK

Target AZO adalah target aluminium seng oksida, terutama terdiri atas seng oksida doped dengan aluminium oksida, yang merupakan bahan semikonduktor tipe N. Serangan terhadap target AsZF biasanya berlangsung melalui atmosfer yang saling menekan, menekan panas, dan atmosfer saling menyela.

Metode sintering yang paling umum adalah interasi tekanan atmosfer; metode pembentukan umum mencakup pencetakan kering dan isdingin.

Target yang berputar AZO ini dibuat untuk proses penekanan dingin dan saling menyela dan terikat ke tabung belakang. Ukurannya dapat disesuaikan menurut kebutuhan pelanggan.

Target AZO planar dibuat menggunakan proses sintering inter dan dibuang di pelat belakang. Ukurannya dapat disesuaikan menurut kebutuhan pelanggan.

Parameter teknis

Kemurnian: 99.95%, 99.99%; resistivitas (20C): ≤1x10Ω.cm.

Rasio umum: ZnO:Al2O3=98:2 (wt%).

Area aplikasi: Elektroda untuk sel surya lapisan tipis, kaca konduktif transparan dan film fleksibel, layar plasma, refleksi dan perlindungan inframerah, dan bidang-bidang lainnya.

Kami bisa membuat target yang rata AsZO dan berputar.
Spesifikasi dan kemurnian dapat disesuaikan.
Tabel Analisis dan analisis komposisi pada 4N AgZF  sebagai berikut :

Spesifikasi Target
Aplikasi	PVD material yang dilahirkannya
Material	(:)
Kemurnian	4N
Ukuran	disesuaikan
Ketebalan	disesuaikan
Bentuk	Target berputar, tipe Ring, tipe lembar, Tipe lapisan, Tipe pipa
Kerapatan	-g/cm3
Titik Lekapan	-80
Metode hasil bumi	HIP

Kelebihan kita

Proses operasi

Packing Picture

Aplikasi:

Produk terkait

Material	Kemurnian (N)	Komponen (wt%)	Kerapatan	Mencair  Titik	Termal Konduktivitas (WM-1K-1)	Koefisien  ekspansi (10-6k-1)	Produksi  Memproses
Campuran Al	5N	-	2.7	660	235	23.1	Peleburan
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	HIP
CU	4N	-	8.9	1084	400	16.5	Peleburan
Campuran MO	3N5	-	10.28	2623	139	4.8	HIP
Jml	4N	-	8.6	2477	54	7.3	Peleburan
TA (TA)	4N	-	16.7	3017	57	6.3	Peleburan
Si	4N	-	2.33	1414	150	2.6	Sintering&Spray
TI	5N	-	4.5	1670	22	8.6	Peleburan
W	4N	-	19.25	3422	174	4.5	HIP
	3N5	98:2	5.6	1975	22	1.5	Sintering
ITO	4N	90:10	7.15	2000	15	2.0	Sintering
GZF	3N5	SESUAI YANG DIMINTA	7.15	-	-	-	Sintering
IGZO	4N	SESUAI YANG DIMINTA	-	-	-	-	Sintering
NbOx	4N	-	4.6	1460	5	1.5	Sintering&Spray
TIBx	4N	-	4.23	1800	4	7.14	Sintering&Spray