• 4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum
  • 4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum
  • 4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum
  • 4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum
  • 4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum
Favorit

4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum

Aplikasi: Industri
rumus: indium
klasifikasi: Metal Traget
standar mutu: kelas industri
sertifikasi: iso
bentuk: Rotary,Flat,Round

Hubungi Pemasok

Anggota Emas Harga mulai 2023

Pemasok dengan izin usaha terverifikasi

Guangdong, Cina
untuk melihat semua label kekuatan terverifikasi (14)

Informasi dasar.

Tidak. Model.
CYT-In
Paket Transportasi
Wooden Box
Spesifikasi
Customized Size
Merek Dagang
CANYUAN
Asal
China
Kapasitas Produksi
1000PCS

Deskripsi Produk


 
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
 
  Spesifikasi target Chromium
Aplikasi PVD material yang dilahirkannya
Material Indium
Kemurnian 4N5
Ukuran disesuaikan
Ketebalan disesuaikan
Bentuk Target Chromium Chromium, Tipe cincin, tipe lembar, Tipe lapisan, jenis plat dan Tipe tabung
Kerapatan 7,31g/cm3
Titik Lekapan 156.1CELCIUS
Metode hasil bumi HIP
Komposisi kimia Indium ingot
KELAS komponen kimia %
Indium≥ najis kandungan≤
In CU Pb ZN CD FE TI SN AS AI BI
In995 99.995 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005 0.001 0.0005 0.0005 -
Ins9.999 99.99 0.005 0.001 0.0015 0.0015 0.0008 0.0015 0.0015 0.0005 0.0007 -
98 0.15 0.1 - 0.15 0.15 0.15 0.2 - - 1.5

Kelebihan kita
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating


Proses operasi
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating

Packing Picture
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating


Aplikasi:
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating
4n 99.99% High Purity Indium Planar Sputtering Target for PVD Vacuum Coating

Produk terkait
Material Kemurnian
(N)
Komponen
(wt%)
Kerapatan Mencair
 Titik
Termal
Konduktivitas
(WM-1K-1)
Koefisien
 ekspansi
(10-6k-1)
Produksi
 Memproses
Al 3N - 2.7 660 235 23.1 Peleburan
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HIP,PELELUR
CU 4N - 8.9 1084 400 16.5 Peleburan
NI 3N5 - 4.5 1453 90 13 Peleburan
TI 3N - 4.5 1668 15.2 9.4 Peleburan
ZR 3N - 6.49 1852 0.227 - Peleburan
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sintering&Spray
AG 4N - 10.49 961.93 429 19 Peleburan
C 4N - 2.23 3850±50 151 - HIP
TiAl 3N5 SESUAI YANG DIMINTA - - - - Peleburan
InSn 4N SESUAI YANG DIMINTA - - - - Pengecoran
CihSi 4N SESUAI YANG DIMINTA - - - - Semprotan
Krb 4N SESUAI YANG DIMINTA 16.7 3017 57 6.3 HIP
NCr 3N SESUAI YANG DIMINTA - - - - Peleburan
NIV 3N 97:3 - - - - Peleburan
WC 3N - 15.77 2870 110 5.5 Sintering&Spray
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sintering&Spray

Kirim permintaan informasi Anda langsung ke penyedia ini

*Dari:
*Untuk:
*Pesan:

Masukkan antara 20 dan 4000 karakter.

Ini bukan yang Anda cari? Posting Permintaan Sourcing SEKARANG

Temukan Produk Serupa Berdasarkan Kategori

Beranda Pemasok Produk Target Logam 4n 99.99% Target Indium Plar Sp.untuk PPVD murni Tinggi Lapisan vakum

Anda Mungkin Juga Menyukai

Hubungi Pemasok

Anggota Emas Harga mulai 2023

Pemasok dengan izin usaha terverifikasi

Produsen/Pabrik
Produk Utama
Sputtering Target
Jumlah Karyawan
6