• Titanium-spit Tinggi 3n, Aluminium Target Flat plate / Titanium-Aluminium Target rotasi
  • Titanium-spit Tinggi 3n, Aluminium Target Flat plate / Titanium-Aluminium Target rotasi
  • Titanium-spit Tinggi 3n, Aluminium Target Flat plate / Titanium-Aluminium Target rotasi
  • Titanium-spit Tinggi 3n, Aluminium Target Flat plate / Titanium-Aluminium Target rotasi
Favorit

Titanium-spit Tinggi 3n, Aluminium Target Flat plate / Titanium-Aluminium Target rotasi

Application: Industrial
rumus: Titanium-Aluminum
klasifikasi: Alloy Traget
standar mutu: kelas industri
sertifikasi: iso
bentuk: Rotary,Flat,Round

Hubungi Pemasok

Anggota Emas Harga mulai 2023

Pemasok dengan izin usaha terverifikasi

Guangdong, Cina
untuk melihat semua label kekuatan terverifikasi (14)

Informasi dasar.

Tidak. Model.
CYT-AlTi
Paket Transportasi
Wooden Box
Spesifikasi
Customized Size
Merek Dagang
CANYUAN
Asal
China
Kapasitas Produksi
1000PCS

Deskripsi Produk

3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
DESKRIPSI PRODUK

Target putar titanium-alumunium dihasilkan dengan menggunakan proses penyemprotan atau vacuum casting, dan dapat menghasilkan durasi maksimum 4000 mm, dengan ketebalan dan proporsi yang disesuaikan menurut kebutuhan pelanggan.

Target titanium-aluminium planar dihasilkan menggunakan teknologi pelelehan vakum dan pengecoran (bila konten titanium atom lebih besar dari atau sama dengan 50%) atau teknologi isostatik, dan bisa menghasilkan panjang maksimum 1600 mm, lebar maksimum 400mm, dan rasio ukuran 1:1.

Contoh: Disesuaikan menurut kebutuhan pelanggan.

PARAMETER TEKNIS

Kemurnian: 99.8-99.99%; rasio umum: 90-10Alwt%, 80-20Al wt%, 70-30 Alwt%, 50-50Alwt%, waktu menonton 40-60Al%, 33-67Al di% dsb..

Area Aplikasi: Lapisan dekoratif dan lapisan alat, elektronik semikonduktor, alat pemotong, bor karbida, alat keramik karbida, carbide geraham, sebagai lapisan keras.
Kita bisa membuat  target titanium-alumunium dan poros berputar datar.
Spesifikasi dan kemurnian dapat disesuaikan.
Tabel analisis deskripsi dan komposisi anium- 
aluminium murni 3N  seperti di bawah ini:
  Spesifikasi Target
Aplikasi PVD material yang dilahirkannya
Material titanium-aluminium
Kemurnian 3N
Ukuran disesuaikan
Ketebalan disesuaikan
Bentuk Target berputar, tipe Ring, tipe lembar, Tipe lapisan, Tipe pipa
Kerapatan -g/cm3
Titik Lekapan -80
Metode hasil bumi peleburan dan pengadukan

3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
Kelebihan kita
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets


Proses operasi
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets

Packing Picture
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets


Aplikasi:
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets
3n High Purity Titanium-Aluminum Sputtering Target Flat Plate / Titanium-Aluminum Rotating Targets

Produk terkait
Material Kemurnian
(N)
Komponen
(wt%)
Kerapatan Mencair
 Titik
Termal
Konduktivitas
(WM-1K-1)
Koefisien
 ekspansi
(10-6k-1)
Produksi
 Memproses
Campuran Al 5N - 2.7 660 235 23.1 Peleburan
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 HIP
CU 4N - 8.9 1084 400 16.5 Peleburan
Campuran MO 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 HIP
Jml 4N - 8.6 2477 54 7.3 Peleburan
TA (TA) 4N - 16.7 3017 57 6.3 Peleburan
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sintering&Spray
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Peleburan
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 HIP
3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sintering
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sintering
GZF 3N5 SESUAI YANG DIMINTA 7.15 - - - Sintering
IGZO 4N SESUAI YANG DIMINTA - - - - Sintering
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sintering&Spray
TIBx 4N - 4.23 1800 4 7.14 Sintering&Spray
 

Kirim permintaan informasi Anda langsung ke penyedia ini

*Dari:
*Untuk:
*Pesan:

Masukkan antara 20 dan 4000 karakter.

Ini bukan yang Anda cari? Posting Permintaan Sourcing SEKARANG

Temukan Produk Serupa Berdasarkan Kategori

Beranda Pemasok Produk Target Campuran Titanium-spit Tinggi 3n, Aluminium Target Flat plate / Titanium-Aluminium Target rotasi

Anda Mungkin Juga Menyukai

Hubungi Pemasok

Anggota Emas Harga mulai 2023

Pemasok dengan izin usaha terverifikasi

Produsen/Pabrik
Produk Utama
Sputtering Target
Jumlah Karyawan
6