After-sales Service: | We Provide After Sale Services. |
---|---|
Warranty: | 1 Year |
Merek: | Zetron |
Disesuaikan: | Disesuaikan |
Portabel: | Portabel |
Sertifikasi: | FCC, CE, RoHS |
Pemasok dengan izin usaha terverifikasi
Zetron MS104K Multi Gas Portabel untuk O2 SO2 CO2 H2S
Gas yang akan dideteksi
|
Kombinasi arbitrer 1 4 jenis gas seperti gas beracun, gas oksigen, karbon dioksida, gas yang mudah terbakar dan mudah meledak, TVOC, dan sebagainya. Konfigurasi opsional: Pengukuran suhu dan kelembapan.
|
||||
Skenario Aplikasi
|
Semua kasus yang membutuhkan deteksi konsentrasi gas yang cepat dan portabel seperti petroleum, kimia, farmasi, perlindungan lingkungan, distribusi gas pembakaran, pergudangan, analisis gas asap, tata kelola udara, dan lain-lain.
|
||||
Rentang deteksi
|
0 - 1, 10, 100, 1000, 5000, 50000, 100000ppm, 200 mg/L, 100%LEL, 20%, 50%, 100%Vol, dapat dipilih; dan rentang lain dapat disesuaikan.
|
||||
Resolusi
|
0,01ppm atau 0,001ppm (0 - 10 ppm); 0,01ppm (0 - 100 ppm), 0,1ppm (0 - 1000 ppm), 1ppm (0 - 10000 ppm atau lebih), 0.01 mg/l (0 - 200 mg/l), 0.1% LEL, 0.01%, 0.001% Vol |
||||
Prinsip deteksi
|
Zat kimia elektro, pembakaran katalitik, inframerah, konduktivitas termal, PID fotoisasi, dan seterusnya, bergantung pada jenis gas, rentang, lingkungan bidang, dan permintaan pengguna.
|
||||
Masa pakai sensor
|
Prinsip elektrokimia: 2 3 tahun; gas oksigen: 2 tahun atau 6 tahun dapat dipilih; prinsip inframerah: 5 10 tahun; Pembakaran katalitik: 3 tahun; konduktivitas termal: 5 tahun; PID fotionisasi: 2 3 tahun. |
||||
Kesalahan yang diizinkan
|
≤±3% F.S (tingkat presisi yang lebih tinggi dapat disesuaikan)
|
||||
Linearitas
|
≤±2%
|
Kemampuan mengulang
|
≤±2%
|
Ketidakpastian
|
≤±2%
|
Waktu Respons
|
T90≤30 detik
|
Waktu pemulihan
|
≤30 detik
|
||
Lingkungan Kerja
|
Suhu: -40 70 + ≤, kelembapan: 95 kanan 10%
|
||||
Suhu gas sampel
|
-40 70 -, dan konfigurasi opsional gagang filter temperatur tinggi dan pendinginan dapat dideteksi Gas asap pada suhu 400 atau lebih. |
||||
Pengukuran suhu dan kelembapan
|
Konfigurasi opsional: Suhu di -40 70 + 0.5, tingkat akurasi di 0 100; kelembapan pada 3% RH, tingkat presisi pada %
|
||||
Catu daya
|
Baterai polimer isi ulang kapasitas tinggi 3.7VDC, 3000mA
|
||||
Mode tampilan
|
layar warna definisi tinggi 2.31 inci
|
||||
Mode deteksi
|
Pengukuran tipe difusi. Laju aliran yang dikalibrasi adalah 500 ml/menit.
|
||||
Mode alarm
|
Alarm suara & cahaya bisa diatur sebagai alarm, alarm getaran, suara & cahaya + alarm getaran, mematikan alarm.
|
||||
Antarmuka komunikasi
|
USB (Pengisian dan komunikasi), opsional: Antarmuka komunikasi RS485
|
||||
Penyimpanan data
|
Konfigurasi standar adalah kapasitas penyimpanan data untuk 000, 100 entri
|
||||
Tingkat perlindungan
|
IP65
|
||||
Tipe tahan ledakan
|
Aman secara intrinsik
|
||||
Tanda tahan ledakan
|
Exia II CT4 GA
|
||||
Dimensi eksterior
|
TAMBAH BINTIK PADA 130 TAMBAH BINTIK DI TAMBAH 68 MPENUKAR ASCII.
|
||||
Berat
|
200 g
|
||||
Aksesori standar
|
Manual, sertifikat kualifikasi, kartu garansi, pengisi daya USB (termasuk kabel data), klip sabuk, kotak kemasan warna-warni (kotak instrumen aluminium kelas tinggi opsional)
|
||||
Item opsional
|
Fungsi pengukuran suhu dan kelembapan, pompa pengambilan sampel gas eksternal, gagang pengambilan sampel 1.2 m yang dapat ditarik (selang 1-10 meter, dan panjang standar adalah 1 meter), gagang pengambilan sampel baja anti karat 0.4 meter (dengan filter debu, tidak dapat ditarik) |
Catatan: Hubungi kami untuk mempelajari gas lain dan kisaran deteksi lain yang tidak tercantum dalam tabel di atas.
|
||||
Gas
|
Rentang
|
Kesalahan yang Diizinkan
|
Pembacaan minimum
|
Response Time T90
|
Gas yang mudah terbakar ( KEL. )
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
0.1%LEL
|
≤10 detik
|
Gas yang mudah terbakar ( KEL. )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.1%Vol
|
≤10 detik
|
Metana ( CH4 )
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
0.1%LEL
|
≤10 detik
|
Metana ( CH4 )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.1%Vol
|
≤10 detik
|
Gas oksigen ( O2 )
|
0-30%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤10 detik
|
Gas oksigen ( O2 )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤10 detik
|
Gas oksigen ( O2 )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Gas nitrogen ( N2 )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤10 detik
|
Karbon monoksida ( CO )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤25 detik
|
Karbon monoksida ( CO )
|
0-1000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤25 detik
|
Karbon monoksida ( CO )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤25 detik
|
Karbon monoksida ( CO )
|
0-20000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤25 detik
|
Karbon monoksida ( CO )
|
0-100000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤25 detik
|
Karbon dioksida ( CO2 )
|
0-500ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤20 detik
|
Karbon dioksida ( CO2 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤20 detik
|
Karbon dioksida ( CO2 )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤20 detik
|
Karbon dioksida ( CO2 )
|
0-50000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Karbon dioksida ( CO2 )
|
0-20%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤30 detik
|
Karbon dioksida ( CO2 )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤30 detik
|
Formaldehida ( CHH2O )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Formaldehida ( CHH2O )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Formaldehida ( CHH2O )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Formaldehida ( CHH2O )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤50 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤20 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-5ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤20 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤20 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤20 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-30000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Ozon ( O3 )
|
0-20mg/L
|
<±3%(F.S)
|
0,01mg/L
|
≤30 detik
|
Air O3 )
|
0-20mg/L
|
<±3%(F.S)
|
0,01mg/L
|
≤30 detik
|
Hidrogen sulfida ( H2S )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen sulfida ( H2S )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen sulfida ( H2S )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen sulfida ( H2S )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen sulfida ( H2S )
|
0-10000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤45 detik
|
Sulfur dioksida ( SO2 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Sulfur dioksida ( SO2 )
|
0-20ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Sulfur dioksida ( SO2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Sulfur dioksida ( SO2 )
|
0-500ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Sulfur dioksida ( SO2 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Sulfur dioksida ( SO2 )
|
0-10000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Nitrit oksida ( NO )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Nitrit oksida ( NO )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Nitrit oksida ( NO )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Nitrit oksida ( NO )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen dioksida ( NO2 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤25 detik
|
Nitrogen dioksida ( NO2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤25 detik
|
Nitrogen dioksida ( NO2 )
|
0-1000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen dioksida ( NO2 )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen oksida ( NOX )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen oksida ( NOX )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen oksida ( NOX )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen oksida ( NOX )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Gas klorin ( CL2 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Gas klorin ( CL2 )
|
0-20ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas klorin ( CL2 )
|
0-200ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Gas klorin ( CL2 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Gas ammonia (NH3)
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas ammonia (NH3)
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas ammonia (NH3)
|
0-1000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Gas ammonia (NH3)
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Gas ammonia (NH3)
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
0.1%LEL
|
≤10 detik
|
Gas hidrogen ( H2 )
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
0.1%LEL
|
≤10 detik
|
Gas hidrogen ( H2 )
|
0-1000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Gas hidrogen ( H2 )
|
0-20000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Gas hidrogen ( H2 )
|
0-40000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Gas hidrogen ( H2 )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤20 detik
|
Gas helium ( He )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤20 detik
|
Gas argon ( Ar )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤20 detik
|
Gas Xenon ( XE )
|
0-100%Vol
|
<±3%(F.S)
|
0.01%Vol
|
≤20 detik
|
Hidrogen sianida ( HCN )
|
0-30ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen sianida ( HCN )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen klorida ( HCL )
|
0-20ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen klorida ( HCL )
|
0-200ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Fosfor hydride ( PH3 )
|
0-5 ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Fosfor hydride ( PH3 )
|
0-25 ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Fosfor hydride ( PH3 )
|
0-2000 ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Klorin dioksida ( CL O2 )
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Klorin dioksida ( CL O2 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Klorin dioksida ( CL O2 )
|
0-200ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Etilena oksida ( EUNTUK )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Etilena oksida ( EUNTUK )
|
0-1000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Etilena oksida ( EUNTUK )
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
1%LEL
|
≤30 detik
|
Phokomgen ( COCL2 )
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤20 detik
|
Phokomgen ( COCL2 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤20 detik
|
Silane ( SiH4 )
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Silane ( SiH4 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas fluorin ( F2 )
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Gas fluorin ( F2 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas fluorin ( F2 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen fluoride ( HF )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen fluoride ( HF )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen bromida ( HBr )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Diborane ( B2H6 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen yang dirancang oleh Arseniuris
( AsH3 )
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen yang dirancang oleh Arseniuris
( AsH3 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen yang dirancang oleh Arseniuris
( AsH3 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Germane ( GeH4 )
|
0-2ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Germane ( GeH4 )
|
0-20ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hydramine (N2H4)
|
0-1ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Hydramine (N2H4)
|
0-300ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Tetrahyhylene ( THT )
|
0-100mg/m3
|
<±3%(F.S)
|
0.01 mg/m3
|
≤60 detik
|
Gas tambang ( Brom2 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,001ppm
|
≤30 detik
|
Gas tambang ( Brom2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas tambang ( Brom2 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Eyne ( C2 H2 )
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
0.1%LEL
|
≤30 detik
|
Eyne ( C2 H2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Eyne ( C2 H2 )
|
0-1000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Etilena ( C2 H4 )
|
0-100%LEL
|
<±3%(F.S)
|
0.1%LEL
|
≤30 detik
|
Etilena ( C2 H4 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Etilena ( C2 H4 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
Acetaldehida
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Etanol ( C2 H6O )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Etanol ( C2 H6O )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Metanol ( CH6O )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Metanol ( CH6O )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Karbon afide ( CS2 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Karbon afide ( CS2 )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Acrlilitril ( C3H3N )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Acrlilitril ( C3H3N )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Metylamine ( CH5N )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Iodin gas ( I2 )
|
0-50ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
( C8 )
|
0-200ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,1ppm
|
≤30 detik
|
( C8 )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Klorosetilena ( C2 H3CL )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Loroetilena ( C2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Tetrakhletilena ( C2 CL4 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Gas tawa (N2 O)
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Nitrogen trifluoride ( NF3 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Hidrogen peroksida ( O2 H2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Metil brojenis ( CH3 br )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Metil brojenis ( CH3 br )
|
0-30000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Metil brojenis ( CH3 br )
|
0 g/m3
|
<±3%(F.S)
|
0,1g/m3
|
≤30 detik
|
Sulfuryl fluorida ( SO2 F2 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Sulfuryl fluorida ( SO2 F2 )
|
0-5000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Sulfuryl fluorida ( SO2 F2 )
|
0-10000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Benzena ( C6 H6 )
|
0-10ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Benzena ( C6 H6 )
|
0-100ppm
|
<±3%(F.S)
|
0,01ppm
|
≤30 detik
|
Benzena ( C6 H6 )
|
0-2000ppm
|
<±3%(F.S)
|
1ppm
|
≤30 detik
|
Beijing Zetron Technology Co., Ltd , dengan 20 tahun pengalaman yang dikombinasikan, Zetron mengembangkan, memproduksi dan memasarkan beragam peralatan deteksi gas untuk melindungi orang dari kondisi berbahaya di industri, penelitian, dan aplikasi komersial. Saat ini Zetron sedang dalam menyediakan peralatan deteksi gas, layanan dan solusi untuk menjaga keamanan pabrik dan personil Anda. Jajaran produk lengkap kami meliputi detektor gas portabel, sistem deteksi tetap, penganalisis gas timbunan sampah, detektor gas metana laser jarak jauh, serta sistem monitoring kualitas udara.
Sebagai bagian dari fokus kami pada kualitas, Zetron adalah ISO9001:2005 dan bersertifikasi SGS serta produk kami telah memperoleh sertifikasi CE, RoHS, FCC, dan ATEX .
Sejauh ini, kami memiliki pelanggan/pembeli dari lebih dari 20 negara/kawasan seperti Bulgaria, Brazil, Kanada, China, Kolombia, Jerman, Irak, Jepang, Filipina, Federasi Rusia, Singapura, Taiwan, Thailand, Uruguay, Amerika Serikat, Ukraina, Vietnam, dll.
Daftar negara yang masih berkembang.....
Kami berkomitmen menjadi International well Know Provider untuk menyediakan alternatif, produk asli, dan jasa serupa atau lebih baik untuk memenuhi kebutuhan, persyaratan, dan solusi pelanggan.
Setiap pelanggan penting bagi kami dan kami berusaha memenuhi semua kebutuhan dan harapan pelanggan kami.
Pemasok dengan izin usaha terverifikasi